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前段时间，“光刻胶”概念在市场上受到关注，作为关键性电子化学品之一，光刻胶是实现半导体材料国产替代的重点领域，那么目前中国本土光刻胶发展现状如何？本土企业的光刻胶产品或项目有何新动态？

据了解，光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，其技术原理是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

按显示的效果，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶；按应用的领域，光刻胶可分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶、PCB光刻胶。其中，为适应集成电路线宽不断缩小的要求，半导体用光刻胶波长由紫外宽谱向g线（436nm）→i线（365nm）→KrF（248nm）→ArF（193nm）→F2（157nm）的方向转移，通过分辨率增强技术不断提升光刻胶的分辨率水平。

目前，全球主要光刻胶企业有日本合成橡胶（JSR）、东京应化（TOK）、住友化学、信越化学、美国罗门哈斯等，市场高度集中。我国光刻胶产业发展缓慢，光刻胶生产及研发水平与国际差距较大，主要集中在PCB光刻胶、TN/STN-LCD光刻胶等产品，技术壁垒较高的半导体用光刻胶仍需依赖进口，尤其在高端光刻胶方面仍处空白。

不过，随着近年来国内半导体产业发展迅猛，国产光刻胶企业也正在发力追赶，国内研发生产光刻胶的企业主要有晶瑞股份、北京科华、南大光电、上海新阳、容大感光、飞凯材料等，目前晶瑞股份旗下子公司苏州瑞红和北京科华可规模量产半导体用光刻胶，但总体来说国产半导体用光刻胶发展之路任重道远。

近期，光刻胶受到了市场重点关注，多家企业亦披露了各自光刻胶产品的发展情况，下面来看看国内半导体用光刻胶的最新动态。

晶瑞股份

晶瑞股份是一家微电子材料企业，主导产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料和基础化工材料等，其中光刻胶产品主要由其子公司苏州瑞红生产。据介绍，苏州瑞红1993年开始光刻胶生产，是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。

根据晶瑞股份2019年年报，苏州瑞红紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线等高端产品已规模供应市场数十年，承担并完成了国家重大科技项目02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，其i线光刻胶已向合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子等行业头部公司供货。

晶瑞股份表示，苏州瑞红KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25～0.13μm的技术要求，建成了中试示范线。

南大光电

南大光电专业从事高纯电子材料的研发、生产和销售，现已形成了MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料和光刻胶四大业务板块。其中，在光刻胶方面，南大光电正在自主研发和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。

根据2019年年报显示，南大光电“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”的研发工作已经完成，正在验收中。此外，公司设立光刻胶事业部，并由子公司宁波南大光电全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施。

5月27日，南大光电公告表示，“ArF光刻胶开发和产业化项目”的基础建设按计划进行；2019年底完成一条生产线的安装，正在调试阶段。2020年4月，公司采购的用于检测ArF（193nm）光刻胶产品性能的光刻机运入宁波南大光电工厂，5月开始进行安装调试，预计安装调试需要4-5个月的时间。公司同时自主研发制备ArF（193nm）光刻胶用的高纯原材料，研制出的ArF（193nm）光刻胶样品正在供客户测试。

6月3日，南大光电表示，目前“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”尚处于光刻胶样品验证阶段，验证过程预计需要12-18个月，甚至更长的时间。

上海新阳

2016年底，上海新阳立项开发集成电路制造用高端光刻胶。根据上海新阳2019年年报，其已研发获得多个KrF厚膜、ArF干法光刻胶产品配方、工艺数据和技术参数，得到了多次可重复的实验室曝光结果，关键曝光参数已经达到了光刻生产工艺对商用光刻胶可以进行中试产品验证的基本要求。

5月8日，上海新阳在2019年度网上业绩说明会上表示，公司KrF厚膜光刻胶配套的光刻机一季度已完成安装调试，目前进入试运行阶段，KrF厚膜中试产线在安装调试建设当中，光刻胶产品还处于实验室研发和中试开发阶段。

5月26日，上海新阳在投资者互动平台上表示，公司光刻胶已完成实验室研发，准备开始进行200L反应釜的中试，在建项目规划产能为500吨/年。

容大感光

容大感光致力于PCB感光油墨、光刻胶及配套化学品、特种油墨等电子化学品的研发、生产和销售，光刻胶产品主要包括紫外线正胶、紫外线负胶两大类产品以及稀释剂、显影液、剥离液等配套化学品，主要应用于平板显示、发光二极管及集成电路等领域。

据了解，容大感光的光刻胶业务营收占比较小，其产品应用领域更多集中在平板显示合LED芯片。5月27日，容大感光在投资者互动平台上表示，公司目前可生产的半导体光刻胶主要为g/i线正性光刻胶、i线负性光刻胶、i线厚膜胶等，主要包括RD-2000、RD-4000、RD-6000、RD-NL系列等。

此外，容大感光大亚湾光刻胶及其配套化学品募投项目设计的生产能力为年产1000吨，投产后的主要产品是用于平板显示、发光二极管、集成电路芯片等领域的光刻胶，类别为g/i线正性光刻胶、负性光刻胶，i线正性光刻胶的分辨率为0.35微米。今年5月中旬，容大感光回复深交所关注涵表示，该项目所有设备已安装调试完毕。

飞凯材料

飞凯材料的主营业务产品主要包括紫外固化材料和电子化学材料，电子化学材料主要包括应用于半导体制造及先进封装领域的湿制程电子化学品如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液等，用于集成电路传统封装领域的锡球、环氧塑封料，用于TFT-LCD液晶显示面板制造领域的正性光刻胶、TN/STN型混合液晶、TFT型混合液晶、液晶单体及液晶中间体、用于OLED屏幕制造领域的配套材料等新材料。

在光刻胶方面，2019年飞凯材料的5000t/aTFT-LCD光刻胶项目顺利试生产，今年6月1日飞凯材料在投资者平台上表示，公司TFT-LCD正性光刻胶目前处于试生产过程中，且近期出货量也在稳步提升。

至于半导体用光刻胶，飞凯材料表示，公司i-line半导体光刻胶实验室阶段产品正在做客户送样验证前的准备工作。

近日，江苏南大光电材料股份有限公司（以下简称“南大光电”）在股票交易异常波动的公告中披露了其光刻胶项目最新进展。

公告显示，南大光电承接的国家“02专项”之“ArF光刻胶产品的开发和产业化项目”的基础建设按计划进行；2019年底完成一条生产线的安装，正在调试阶段。2020年4月，公司采购的用于检测ArF(193nm)光刻胶产品性能的光刻机运入宁波南大光电工厂，5月开始进行安装调试，预计安装调试需要4-5个月的时间。公司制备ArF(193nm)光刻胶用的高纯原材料来源于自主研发，研制出的ArF(193nm)光刻胶样品正在供客户测试。

目前“ArF光刻胶开发和产业化项目”正处于光刻胶样品验证阶段，验证过程预计需要12-18个月，甚至更长的时间。南大光电还指出，ArF(193nm)光刻胶产品开发技术突破难度大、工艺要求高，且实现稳定量产周期较长，后续是否能取得下游客户的订单，能否大规模进入市场仍存在较多的不确定性。

据了解，南大光电ArF光刻胶产品的开发和产业化项目总投资额为6.56亿元，其中，国拨资金1.93亿元，地方配套资金1.97亿元，项目实施主体为南大光电全资子公司宁波南大光电。

2019年12月14日，南大光电再次发布公告称，通过增资扩股的方式宁波南大光电进行增资2.6亿元，增资事项完成后，宁波南大光电的注册资本由4000万元增加到3亿元。对于宁波南大光电增资扩股并引入外部投资者，南大光电称，有利于加快公司ArF光刻胶产品的开发与产业化项目的建设进度，推动光刻胶板块的战略布局。

根据最初规划，ArF光刻胶产品的开发和产业化项目拟通过3年的建设、投产及实现销售，达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模，产品满足集成电路行业需求标准。同时建成先进光刻胶分析测试中心和高分辨率光刻胶研发中心。

4月21日，南大光电发布公告，拟变更公司转让参股公司北京科华微电子材料有限公司（以下简称“北京科华”）股权受让方。

去年6月，南大光电宣布拟将北京科华31.39%股权转让给深投控、疌盛投资、高盟新材、四川润资、弘坤创投、西藏汉普森、沃燕创投共7家公司。上述交易同时，北京科华的其他股东美国Meng Tech公司和杭州诚和创业投资有限公司自愿支付公司股权转让差价款1619万元。该交易完成后，南大光电不再持有北京科华的股权。

截至公告日，南大光电已收到疌盛投资、高盟新材、弘坤创投和沃燕创投支付的全部股权转让对价款；收到四川润资支付的第一期股权转让款400万元；收到西藏汉普森支付的第一期股权转让款601.02万元。截至目前，南大光电累计收到6家交易对手方支付的股权转让款共计9999.02万元。

北京科华就上述6家已履行付款义务的交易方对应的股权，完成了股权转让的工商变更登记手续。截至目前，南大光电与深投控的股权转让协议（对应股权对价款5000万元）尚未履行，公司仍持有北京科华9.18%的股权。

鉴于深投控未按股权转让协议履行付款义务，南大光电采纳变更受让方的方案，现在拟将董事会、股东大会审议通过的原股权转让方案中，“以5000万元人民币将持有的北京科华9.1836%的股权转让给深投控”，变更为“以5000万元人民币将持有的北京科华9.1836%的股权转让给浙江自贸区静远投资合伙企业（有限合伙）”。

南大光电表示，本次交易若顺利实施，将有效解决公司对于北京科华剩余股权的处置，增加公司的营运资金，有利于优化公司资产结构，不存在损害公司及全体股东利益的情形。本次交易受让方变更后，若公司持有北京科华剩余的9.18%股权顺利转让，预计获得股权转让款 5000万元，公司预计增加投资收益约1600万元，将对公司2020年度经营业绩产生积极影响。

资料显示，北京科华成立于2004年，是一家产品覆盖KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外宽谱的光刻胶及配套试剂供应商与服务商。2015年，南大光电通过受让以及增资方式获取北京科华31.39%的股份，并表示双方将共同开展193nm光刻胶的研究与产品开发，后来双方合作并没有按计划进行。

近日，南大光电在互动平台透露，宁波南大光电目前已安装完成第一条ArF（193nm）光刻胶生产线，该产线仍处于调试阶段。目前，研发的产品正在测试、认证过程中，尚未形成量产和销售。

2019年7月，南大光电在互动平台透露，公司设立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”落地实施。

2019年10月，南大光电公告称，公司与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》，拟在宁波经济技术开发区投资开发高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料以及配套原材料和底部抗反射层等高纯配套材料，形成规模化生产能力，建立配套完整的国产光刻胶产业链。该项目计划总投资6亿元，预计总用地50亩。项目完全达产后，预计实现约10亿元的年销售额，年利税预计约2亿元。

资资料显示，南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售，通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前，公司形成MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料等业务板块。值得注意的是，2017年，南大光电还承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”（以下简称193nm光刻胶项目）。

对于两个光刻胶项目之间的联系，南大光电此前在公告中强调，“ArF光刻胶开发和产业化项目”与“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”系两个独立的项目。公司称，投建新项目是为加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。

12月14日，江苏南大光电材料股份有限公司（以下简称“南大光电”）发布公告称，公司分别于2018年12月21日、2019年1月9日召开第七届董事会第十二次会议、2019年第一次临时股东大会，审议通过了《关于投资实施国家“02专项”ArF光刻胶产品的开发与产业化项目的议案》和《关于使用部分超募资金投资“ArF光刻胶产品的开发与产业化”项目的议案》。

据悉，“ArF光刻胶产品的开发与产业化项目”(“光刻胶项目”)投资总额约6.56亿元人民币，其中国拨资金约1.93亿元，地方配套资金约1.97亿元，使用公司上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。项目实施主体为公司全资子公司宁波南大光电材料有限公司(以下简称“宁波南大光电”)。

截至公告日，南大光电已使用上述超募资金4,000万元作为资本金投入宁波南大光电，用于实施光刻胶项目。

公告指出，为进一步推动光刻胶项目的顺利实施，满足项目资金需求，宁波南大光电拟以增资扩股的方式融资2.6亿元（含上述已经公司董事会、股东大会审议通过的超募资金使用计划中剩余的1.1亿元）。

公告披露，上述增资扩股方式分为三部分。

第一部分为南大光电拟以货币资金方式对宁波南大光电增资1.5亿元,其中使用上述超募资金使用计划中的剩余资金1.1亿元，自有或自筹资金4000万元。

第二部分为南大光电拟以自有的“光刻胶技术资产组”作为无形资产对宁波南大光电增资，增资金额为3000万元。

第三部分为宁波南大光电引入新的投资方：宁波经济技术开发区金帆投资有限公司、天津南晟贰号企业管理合伙企业（有限合伙）以及许从应个人。经各方友好协商，宁波金帆以3000万元的价格认购宁波南大光电新增注册资本3000万元；天津南晟以4000万元的价格认购宁波南大光电新增注册资本4000万元；许从应先生以1000万元的价格认购宁波南大光电新增注册资本1000万元。

本次增资扩股前，宁波南大光股权结构如下：

本次增资扩股后，宁波南大光股权结构如下：

南大光电称，本次投资，宁波南大光电的注册资本由人民币4,000万元增加到30,000万元，其中新增注册资本人民币26,000万元。宁波南大光电本次增资扩股并引入外部投资者，有利于增强宁波南大光的资金实力，有利于加快公司“ArF光刻胶产品的开发与产业化项目”的建设进度，推动公司在光刻胶板块的战略布局。

液晶显示器之所以能显现出色彩斑斓的画面，奥秘就在于液晶面板中的一层2微米厚的彩色薄膜，彩色薄膜颜色的产生就由光刻胶来完成，由于配方难调，“光刻胶”成为业界亟待突破的关键技术之一。10月22日，记者从经开区企业北京欣奕华科技有限公司（以下简称“欣奕华”）了解到，经过多年的行业累积和技术迭代，欣奕华在平板显示用负性光刻胶领域实现了量产，预计今年将有1000吨的光刻胶交付用户，约占国内市场的8%。

彩色光刻胶是利用光化学反应，经曝光、显影等工艺在基底上形成微细图形的电子材料，在手机、电脑、液晶电视、智能手表等产品中实现彩色显示，是显示工艺的重要原材料。光刻胶的研发关键在于其成分复杂、工艺技术难以掌握。光刻胶主要成分有色浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂等，开发所涉及的技术难题众多，要自主研发生产，技术难度非常之高。

走进欣奕华办公区光刻胶研发实验室，实验室被布置成黄光区，研发人员正在对光刻胶样品进行配比试验。“光刻胶的制备与使用需要在黄光区的环境下，如果是在普通的环境下，胶会因为光固化反应导致产品报废。”欣奕华企划室负责人陆金波介绍说。为了让记者更直观地感受光刻胶的用量，他打了个比方：生产50台55英寸的电视，需要红、绿、蓝光刻胶各约1千克，需要黑色光刻胶约0.67千克。

抢跑光刻胶赛道，欣奕华备战已久。陆金波说，在平板显示产业迅猛发展、市场对光刻胶等相关上游材料需求量与日俱增的背景下，研发团队自2006年起就开始了在该领域的探索。随后，欣奕华成立，把以彩色光刻胶为代表的显示材料领域作为企业聚焦和产品研发的重点领域之一。在2014年，实现光刻胶首批次出货。

通过长期的摸索和自主创新，欣奕华具备年产3000吨以上光刻胶的能力，掌握了产品开发、工厂设计、生产管理、品质管控、构建稳定供应链和物流体系等方面的能力与技术，成为国内首家可实现光刻胶大规模量产出货的企业。欣奕华在该领域的突破有助于我国逐步打破彩色光刻胶主要依赖进口的被动局面，还能通过科研协同及其成果的高效转化，为本土液晶面板企业的长足发展降本增效、保驾护航。

经开区年度工作报告中提出，要做“尖”新一代信息技术产业集群，在关键环节、核心技术、标准制定上超前布局。欣奕华在光刻胶这条科创之路上抢跑固然能为企业自身不断创造新的增长极，但企业的可持续发展依然有赖于国内相关产业生态的协同发展，大家一起跑起来，才能不断提升技术、工艺与产品水平，实现我国关键电子化学品材料的国产化，完善我国泛半导体产业链，满足国家和重点产业的需求。