新型存储的机会来了?格芯22nm工艺量产eMRAM

新型存储的机会来了?格芯22nm工艺量产eMRAM

近日,格芯宣布基于22nm FD-SOI (22FDX)工艺平台,新型存储器eMRAM(嵌入式、磁阻型非易失性存储器)已投入生产。eMRAM属新型存储技术,与当前占据市场主流的DRAM和NAND闪存相比,具有更快的存取速度和更高的耐用性,在边缘设备中具有替代NAND闪存和部分SRAM的潜质。它在22nm工艺下的投产,将加快新型存储技术的应用进程,未来发展前景看好。

22nm FD-SOI工艺eMRAM年内量产,采用相关芯片的终端明年面世

根据格芯的报告,将在德国德累斯顿1号晶圆厂的12英寸生产线,进行eMRAM的制造加工。目前,格芯正在接洽多家客户,计划于2020年安排多次生产流片。这也意味着,采用22nm FD-SOI工艺的eMRAM有望于2020年投入量产,采用相关芯片产品的终端设备于2021年有望面世。

eMRAM属新型存储技术,相比DRAM和NAND闪存,具有更快的存取速度和更高的耐用性,适用于物联网、通用微控制器、汽车电子、终端侧人工智能设备和其他低功耗设备当中。基于22nm FD-SOI先进工艺节点制造,产品将具有更高的性价比。格芯汽车、工业和多市场战略业务部门高级副总裁和总经理Mike Hogan表示:“客户可利用这些解决方案来构建适用于高性能和低功耗应用的创新产品。基于FDX平台生产的eMRAM,更有利于集成在高性能射频、低功耗逻辑和集成电源管理的解决方案中实现产品的差异化。”

除格芯之外,其他半导体厂商对于eMRAM等新型存储器的开发也非常重视。2019年年初,三星曾宣布基于28nm FD-SOI工艺,在韩国器兴厂区投产eMRAM,并计划生产1千兆容量的eMRAM测试芯片,为大规模生产做准备。三星代工市场副总裁Ryan Lee表示:“通过eMRAM与现有成熟的逻辑技术相结合,三星晶圆代工将继续扩大新兴的非易失存储器工艺产品组合,以满足客户和市场需求。”台积电技术长孙元成也曾经透露,台积电已开始研发eMRAM和eRRAM等,并计划采用22nm工艺。这是台积电应对物联网、移动设备、高速运算电脑和智能汽车等领域所提供效能更快速和耗电更低的新存储器。

应用材料则在2019年推出业界首款具备量产价值的MRAM制造设备平台Endura Clover MRAM PVD系统,可进行材料沉积、介面清洁和热处理功能等,在半导体设备上为MRAM的量产提供了可行性。根据应用材料金属沉积产品事业部全球产品经理周春明的介绍,一个PVD系统可以整合7个Clover PVD腔室,在一个PVD系统中就可以完成10多种不同材料和超过30层以上的沉积,由于不需要像以往设备那样进行真空中断,将大幅提升成品率。

存取速度提高10倍以上,有望成为未来云服务数据中心首选

目前,业界关于新型存储器的讨论一直很热,并不仅局限于eMRAM。3D XPoint、PCRAM、ReRAMRRAM等均是人们重点关注的技术。

2006年英特尔即与美光联合成立了IM Flash Technologies公司,共同开发新型存储器3D Xpoint。虽然双方于2018年因技术路线分歧而分道扬镳,但是目前英特尔与美光均已各自量产3D Xpoint,并投入推广。英特尔在其云计算解决方案中,将3D Xpoint和3D NAND整合在单一模块当中,作为HDD硬盘、3D NAND与DRAM内存之间的一个新的层级。由于傲腾硬盘的容量是DDR4内存的10倍,断电也不丢失数据,将增加存储系统的整体性能。英特尔中国研究院院长宋继强告诉记者:“将DRAM、NAND Flash和傲腾技术相结合,在缓存和DRAM之间,DRAM存储之间插入第三层,填补内存层级上的空白,使存储结构间的过渡更加平滑,对于提高系统性能非常有利。”在2019年的“Mircon Insight”技术大会上,美光也推出了基于3D XPoint技术的超高速SSD硬盘X100。美光执行副总裁兼首席商务官Sumit Sadana表示:“美光是全球为数不多的DRAM、NAND和3D XPoint解决方案垂直整合提供商,该产品将继续推动我们的产品组合向更高价值的解决方案发展,从而加速人工智能能力发展、推动更快的数据分析,并为客户创造新的价值。”

ReRAM和PCRAM同样属于非易失性存储器,适合作为“存储级存储器”填补服务器DRAM和NAND闪存之间不断扩大的性价比差距。根据周春明的介绍,在将PCRAM或者ReRAM用于数据中心存储系统当中时,相较于传统的NAND,可以提供超过10倍的存取速度,有望成为未来云服务数据中心的首选。目前,业界对于PCRAM与ReRAM的量产开发也十分积极。2019年在推出面向MRAM生产的PVD系统的同时,应用材料还推出了支持PCRAM、ReRAM量产化的Endura Impulse PVD设备。周春明预测未来3~5年,新型存储器有望解决制造上瓶颈快速进入市场。

融合还是替代?

eMRAM等新型存储器会取代DRAM和NAND Flash成为市场主流吗?集邦咨询半导体研究中心(DRAMeXchange)资深协理吴雅婷认为,eMRAM只会部分取代DRAM/NAND的使用量,但并没有办法完全取代现有的存储器解决方案。在所有新一代存储器中,eMRAM的电信特性与DRAM和NAND Flash极其相似,具备一定的优缺点,并未具备完全替代DRAM和NAND Flash的性能。“使用新一代存储器,对于传统平台来说,需要改变以往的平台架构才能适应,并不是可以轻松使用的。”吴雅婷说。

应用材料金属沉积产品事业部全球产品经理周春明也表示,新型存储器具有更快的存取速度,更好的耐用性,更小的裸片尺寸、成本和功耗等性能优势。例如,以统合式 MRAM 解决方案取代微控制器中的eFlash和SRAM,可节省90%的功耗。不过,周春明也指出,目前下一代存储器在量产制程方面仍然存在很多瓶颈。

也就是说,新一代存储器想要获得一定的市场空间,还需要与现有的存储器解决方案进行配合,加快适应传统平台的架构,释放性能方面的优势。

格芯发展完成22FDX eMRAM生产技术 与x86 CPU生产渐行渐远

格芯发展完成22FDX eMRAM生产技术 与x86 CPU生产渐行渐远

就在2018年8月,在晶圆代工大厂格芯(GlobalFoundries)宣布停止7纳米及其以下先进制程的发展之后,长期合作伙伴的处理器大厂AMD便开始将7纳米Zen架构的CPU订单全都交给台积电代工,双方的这两年的合作关系非常紧密,也使得AMD获得诸多效益。

与之相比,AMD的前合作伙伴格芯在不发展先进制程的情况下,改在成熟制程上扩展业务。日前,格芯就宣布已经完成了22FDX(22纳米FD-SOI)的技术开发,且未来将在这技术上进一步成为相关领导者,而这样等于宣布了格芯未来将与x86架构CPU的代工渐行渐远。

2009年AMD将半导体制造业务拆分出来,成立了格罗方德(GlobalFoundries,后改名为格芯)。自此,AMD变成了Fabless的无晶圆IC设计公司,芯片生产则是都交给格芯来代工。之后AMD不断减少对格芯的持有股份,如今的AMD已经与格芯没有任何关系,格芯当前的大股东为阿拉伯联合大公国国有投资部门旗下的阿布达比穆巴达拉投资公司。

而由于AMD与格芯的这段历史,使得AMD在2018年之前都是透过格芯进行芯片生产。直到2018年格芯宣布退出7纳米及其以下先进制程的研发之后,AMD才开始把7纳米处理器的订单转给台积电代工,如今包括的7纳米Ryzen及Navi显卡都是台积电代工,与格芯的合作只保留14纳米及12纳米制程的合作。

虽然格芯过去一直帮AMD进行代工生产,但公司本身却一直没有获利。尤其在停止发展7纳米以下先进制程,使得AMD开始将7纳米CPU转单台积电之后,格芯的财务状况更加吃紧。这使得这些年来格芯陆续处理掉多家晶圆厂,包括新加坡的Fab 3E、美国纽约州的Fab 10等,目的是将经营重心也收缩到了一些新兴领域,比如RF射频、eMRAM存储器等产品上,这也促成了格芯在22FDX(22 nm FD-SOI)上的技术开发,而这项技术用于生产嵌入式磁阻非易失性存储器(eMRAM)上。

格芯表示,使用其22FDX制程技术所生产的eMRAM测试芯片,在ECC关闭模式下,在-40°C到125°C的工作温度下,具有10万个周期的耐久性和10年的资料保存能力,具有可靠性高,耐高温差的特点。因此,eMRAM将是可能一统存储器及闪存的未来型存储器。现阶段虽容量比较小,主要用于物联网、车载电子等市场,但是前途将不可限量。

而有了22FDX制程技术生产的eMRAM的基础,格芯也表示,未来他们将要做eMRAM领域的领导者,致力于帮助客户开发功能丰富的差异化产品,以及推动潜在的新计算架构等新技术发展。这说明格芯未来在晶圆代工的走向上,将会与x86 CPU的代工渐行渐远,另外开创新蓝海市场。

对此,市场人士指出,在x86市场的激烈竞争强度下,格芯目前的确没有特别的利基点,转向其他领域发展,则可能为格芯创造一业务新蓝海。不过,此领域还是有其他等业者的竞争,格芯要如何善用本身优势,则有待后续进一步观察。

格芯22FDX平台首款eMRAM正式量产

格芯22FDX平台首款eMRAM正式量产

格芯(GLOBALFOUNDRIES)的22nm FD-SOI(22FDX)平台上的嵌入式磁随机存取存储器(eMRAM)已正式投入生产。同时格芯正与多家客户共同合作,计划于2020年实现多重下线生产。格芯树立业界里程碑,证明了eMRAM的可扩展性在物联网、通用微控制器、边缘AI和其他低功耗应用在进阶制程节点上是经济有效的选择。

格芯的eMRAM,让设计师能够扩展现有的物联网和微控制器单元架构,以取得28nm以下技术节点的功耗和密度优势,并作为大容量嵌入式NOR快闪存储器的替代方案。

格芯的eMRAM是广泛使用且坚固的嵌入式非挥发性存储器(eNVM),已通过五项严格的实际回焊测试,在-40℃到125℃的温度测试范围,展现出10万次循环耐久性和资料保存期限高达十年。FDX eMRAM解决方案通过AEC-Q100质量等级2之验证标准。该解决方案的开发正在进行中,期望可以在明年通过符合AEC-Q100质量等级1解决方案之验证标准。

格芯汽车与工业多市场部门资深副总暨总经理Mike Hogan表示,格芯致力于透过稳定、功能多元的解决方案让FDX平台与众不同,进而让客户以高性能和低功耗之应用来开发创新产品。格芯的差异化eMRAM,部署在业界最先进的FDX平台上,为易于整合的eMRAM解决方案提供独一无二的高效能RF、低功耗逻辑和整合电源管理组合。让客户能够提供新一代超高性能、低功耗的MCU和已连接的IoT应用。

格芯与设计合作伙伴今起提供客制化设计套件,其中包含可插式套件、4到48兆位硅验证的MRAM巨集以及可选式MRAM支援内建测试功能。

eMRAM是一项可扩充的功能,预计将在FinFET和未来的FDX平台上应用,是eNVM的进阶规划。格芯位于德国德勒斯登Fab1的先进12吋晶圆生产线,将会采用MRAM来支援22FDX的批量生产。

格芯推出基于22FDX平台且可批量生产的eMRAM

格芯推出基于22FDX平台且可批量生产的eMRAM

格芯昨日宣布基于其22nm FD-SOI(22FDX)平台的嵌入式、磁阻型非易失性存储器(eMRAM)已投入生产。格芯正在接洽多家客户,计划2020年安排多次生产流片。此次公告是一个重要的行业里程碑,表明eMRAM可在物联网(IoT)、通用微控制器、汽车、终端人工智能和其他低功耗应用中作为先进工艺节点的高性价比选择。

格芯的eMRAM产品旨在替代高容量嵌入式NOR闪存(eFlash),帮助设计人员扩展现有物联网和微控制器单元架构,以实现28nm以下技术节点的功率和密度优势。

格芯的eMRAM是一款可靠的多功能嵌入式非易失性存储器(eNVM),已通过了5次严格的回流焊实测,在-40℃至125℃温度范围内具有100,000次使用寿命和10年数据保存期限。FDX eMRAM解决方案支持AEC-Q100 2级设计,且还在开发工艺,预计明年将支持AEC-Q100 1级解决方案。

格芯汽车、工业和多市场战略业务部门高级副总裁和总经理Mike Hogan表示:“我们将继续通过功能丰富的可靠解决方案实现差异化FDX平台,客户可利用这些解决方案来构建适用于高性能和低功耗应用的创新产品。我们的差异化eMRAM部署在业界先进的FDX平台之上,可在易于集成的eMRAM解决方案中实现高性能射频、低功耗逻辑和集成电源管理的独特组合,帮助客户提供新一代超低功耗MCU和物联网应用。”

格芯携手设计合作伙伴,即日起提供定制设计套件,包括通过芯片验证的插入式MRAM模块(4至48MB),以及MRAM内置自检功能支持。

eMRAM是一种可扩展功能,预计将在FinFET和未来的FDX平台上推出,作为公司先进eNVM路线图的组成部分。格芯位于德国德累斯顿1号晶圆厂的先进300mm产品线将为MRAM22FDX的量产提供支持。

2.36亿美元收购案完成交割 世界先进再添一座8英寸晶圆厂

2.36亿美元收购案完成交割 世界先进再添一座8英寸晶圆厂

2019年1月,晶圆代工厂世界先进集成电路股份有限公司(以下简称“世界先进”)宣布将斥资2.36亿美元购买格芯位于新加坡Tampines的Fab 3E 8英寸晶圆厂相关资产。今日(2020年1月2日),世界先进宣布该交易完成交割。

世界先进官网消息表示,公司于2019年1月31日签约向格芯公司购入位于新加坡Tampines的8英寸晶圆厂厂房、厂务设施、机器设备以及MEMS知识产权与业务,已依协议于2019年12月31日完成交割,世界先进正式接手该厂营运,成为世界先进之新加坡子公司。

据了解,原格芯Fab 3E主要业务为MEMS代工,现有月产能约35000片8英寸晶圆。世界先进此前表示,除驱动IC、电源管理IC、分离式元件与传感器等原油业务外,购入新加坡厂后,也将积极开发MEMS市场。

资料显示,1994年12月世界先进成立于中国台湾,原以生产及开发DRAM及其他存储器芯片为主要营运内容,1999年导入逻辑产品代工技术。2000年,世界先进宣布由DRAM厂转型为晶圆代工公司,并于2004年7月正式结束DRAM生产制造,转型为百分之百的晶圆代工公司。

随后,世界先进通过并购以扩充产能。2007年,世界先进成功购入华邦电子的8英寸厂;2014年,世界先进购入南亚科技所拥有位于桃园县芦竹乡的8英寸晶圆厂房。在完成此次并购前,世界先进共拥有三座8英寸晶圆厂,2019年平均月产能约二十万九千片晶圆。

在集邦咨询旗下拓墣产业研究院最新发布的2019年第四季度全球前十大晶圆代工厂营收排名中,世界先进排名全球第九。

此次交易交割完成,世界先进表示,新加坡厂目前员工约700人,其中95%为原格芯公司员工留任,预计2020年能为公司带来超过15%之产能增幅,展现世界先进对于扩充产能的决心与承诺。

加强新工艺研发 英特尔招募格芯CTO

加强新工艺研发 英特尔招募格芯CTO

为了做好新的CPU/GPU架构,Intel批量招募了Raja Koduri、Jim Keller等一大批业界牛人,而为了加强新工艺的研发,Intel最近又招揽了前GlobalFoundries CTO、前IBM微电子业务主管Gary Patton博士。

Gary Patton博士在半导体工艺方面造诣深厚,早些年就在IBM挑大梁,2015年GF收购了IBM晶圆制造业务,他也随即进了GF,担任CTO,一直负责尖端工艺的研发。

只不过,GF已经改变投资策略,直接取消了7nm、5nm等更新工艺的研发,不再与台积电、三星正面对抗,改而专注于利润率更高的14/12nm工艺,以及专用性的22FDX、12FDX。

这样一来,Gary Patton这样的顶尖人才就失去了用武之地,离开已是必然,而苦于工艺“落后”的Intel正是最佳去处。

Gary Patton加盟Intel后将担任企业副总裁、设计实现总经理,直接向Intel CTO Mike Mayberry汇报,主要负责建设生态系统、部署特定工艺,以及处理器设计套件开发(PDK)、IP、工具等,促成新工艺满足预设的性能、成本、上市时间需求。

目前,Intel尚未官宣招募Gary Patton,不过在GF的网站上,Gary Patton的名字已经消失。

成熟制程上角力 联电携手智原推22纳米知识产权挑战格芯地位

成熟制程上角力 联电携手智原推22纳米知识产权挑战格芯地位

晶圆代工大厂联电与台湾地区知识产权大厂智原科技于18日宣布,推出基于联电22纳米超低功耗(ULP)与22纳米超低漏电(ULL)制程的基础元件IP解决方案。该22ULP/ULL基础元件IP已成功通过硅验证,包含多重电压标准元件库、ECO元件库、IO元件库、PowerSlash低功耗控制套件以及存储器编译器,可大幅降低芯片功耗,以满足新一代的SoC设计需求。

根据两家厂商表示,针对低功耗SoC需求,智原的22ULP/ULL基础元件IP具备进阶的绕线架构,以及优化的功率、性能和面积设计。相较28纳米技术,22纳米元件库可以在相同性能下减少10%芯片面积,或降低超过30%功耗。此外,该标准元件库可于0.6V至1.0V广域电压下运作,亦支援SoC内的Always-on电路维持超低漏电,多样的IO元件库包括通用IO、多重电压IO、RTC IO、OSC IO和类比ESD IO,存储器编译器具有双电源轨功能、多重省电模式、和读写辅助功能等特色。

智原科技研发协理简丞星表示,智原透过与联电的长期合作以及丰富的ASIC经验,为客户提供专业的联电制程IP选用服务。透过藉由联电22纳米技术推出全新的逻辑元件库和存储器编译器IP,能够协助客户在成本优势下开发低功耗SoC以布局物联网、人工智能、通讯及多媒体等新兴应用攫取商机。

联电知识产权研发暨设计支援处林子惠处长表示,在许多应用中,SoC设计师都需要针对各种应用的节能解决方案。随着智原在联电22纳米可量产的特殊制程上推出的基础元件IP解决方案,让客户可在我们具有竞争力的22纳米平台上,获得包括超低漏电(22ULL)和超低功耗(22ULP)的全面设计支援,享有适用于物联网及其他低功耗产品的完整平台。

市场人士指出,事实上在联电与格芯两家晶圆代工大厂放弃先进制程的研发之后,成熟制程的发展就成为这两家厂商的竞争重点。其中,格芯曾经表示,22FDX制程技术是格芯最重要的技术平台之一,它提供了一个集合了性能、低功耗、低成本物联网与主流移动设备、无线通讯互联以及网络的优秀搭配。使得22FDX制程技术具备的功能,可满足连接、行动、物联网、可穿戴设备、网路和汽车等应用领域下一代产品的需求。

格芯还在2018年7月表示,其22FDX技术在全球获利了超过20亿美元的营收,并在超过50项客户设计中得到采用。因此,22FDX技术可说是在格芯搁置7纳米及其以下先进制程研发后最重要的制程平台。

相较于格芯在22纳米制程上的积极布局,联电方面也不甘示弱,当前与合作伙伴智原科技推出基于联电22纳米超低功耗(ULP)与22纳米超低漏电(ULL)制程的基础元件IP解决方案。随着智原在联电22纳米可量产的特殊制程上推出的基础元件IP解决方案,可以让客户在具有竞争力的22纳米平台上,获得包括超低漏电(22ULL)和超低功耗(22ULP)的全面设计支援,亦可享有适用于物联网及其他低功耗产品的完整平台。

格芯针对人工智慧应用推出12LP+ FinFET解决方案

格芯针对人工智慧应用推出12LP+ FinFET解决方案

才与台积电进行专利诉讼官司和解,并签订10年交互授权协议的晶圆代工大厂格芯(GLOBALFOUNDRIES)宣布,与IC设计厂SiFive正在合作研发将高频宽存储器(HBM2E)运用于格芯最近宣布的12LP+FinFET解决方案,以扩展高性能DRAM。12LP+FinFET解决方案将提供2.5D封装设计服务,可加速人工智能(AI)应用上市时间。

格芯表示,为了实现资料密集AI训练应用的容量和频宽,系统设计师面临在同时保持合理的功率标准下,将更多的频宽压缩到较小区域的艰钜挑战。因此,格芯的12LP平台和12LP+解决方案,搭配SiFive的定制化高频宽存储器介面,能使高频宽存储器轻松整合到系统单芯片(SoC)解决方案,从而在运算和有线基础设施市场中,为AI应用提供快速、节能的数据处理。

另外,作为合作的一部分,设计人员还能使用SiFive的RISC-V IP产品组合和DesignShare IP生态系统,运用格芯12LP+设计技术协同优化(DTCO),大幅提高芯片的专门化,改善设计效率,在迅速又具成本效益的情况下提供差异化的SoC解决方案。

格芯进一步指出,旗下的12LP+是一款针对AI训练和推理应用的创新解决方案,为设计人员提供高速、低功耗的0.5Vmin SRAM存取单元,支持处理器与存储器之间快速、节能的数据传输。此外,用于2.5D封装的新中介层有助于将高频宽存储器与处理器整合在一起,以实现快速、节能的数据处理。

目前,格芯正在位于美国纽约州马尔他的8号晶圆厂,进行SiFive用于12LP和12LP+的HBM2E介面和客制IP解决方案的开发。客户将可在2020年上半年开始进行优化芯片设计,开发针对高性能计算和边缘AI应用的差异化解决方案。

专利师不看好台积电与格芯和解,后续发展不利于台积电

专利师不看好台积电与格芯和解,后续发展不利于台积电

尽管外界普遍看好晶圆代工龙头台积电和格芯的专利诉讼圆满落幕,但专利师警告长期来说交叉专利授权的情形并不利于台积电,而且格芯仍旧有可能卖给三星,威胁台积电的市场龙头地位,长期来说对台积电的麻烦程度恐怕更大。

中国台湾智慧资本执行长张智为以过去 15 年服务苹果、微软、高通等国际品牌客户的经验推估,专利交叉授权一般来说不是双方都无条件、免费的状况,可以观察后续发布内容,如果没有提及“完全免费授权 non-fee-based cross license”,付费方应该会是台积电,金额大小推估小则 3-4 千万美金,大则几亿美金。

另外而且从“金额大小”还可以看出来背后的意涵,如果仅仅几千万美金,代表专利交叉授权的限制范围较小,万一转卖给三星等竞争对手,买方透过格芯品牌来进行出货可能性高,对台积电将造成威胁,但若金额上亿美金,则代表台积电用资产限缩格芯交叉授权范围,也许限制内容即被竞争对手收购后,丧失交叉授权权利亦有可能,对台积电后续风险较小。

张智为说“台积电交叉授权格芯未来十年申请的半导体技术专利,短期来看台积电因此免于诉讼,省下至多上千万美金的诉讼律师费,但长期解读,营运资金陷入困境的格芯在这场授权和解局却是真正的大赢家,不但可能一次性收取台积电三、四千万甚至几个亿美金的授权金,还能提高自身市场估值。”

张智为进一步指出格芯万一被三星收购,会如何威胁到台积电,说:“未来格芯若放弃上市,待价而沽,拥有台积电未来十年专利授权,身价高个1.5-2倍都不是问题,业界从前几个月就一直盛传三星有意收购格芯,万一真的成交,三星产品未来用格芯品牌出货,台积电未来十年,可能陷入重重专利危机。”

不过,台积电在这次讼战当中以惊人的速度完成和解,也是令专利业界感到非常意外的事情,张智为表示过往专利诉讼期程短则半年一载,长则拖个几年岁月,台积电这次仅仅花不到三个月就达成和解,在业界标准可说是采用光速方式处理。

至于格芯,整体专利资产战操盘相当亮眼,张智为认为,格芯从点线面表现都可圈可点,第一步是去年将全面“专利军团”在美国银行质押融资贷款换现金,第二再用其中比较强的专利组合约二十件,当“阵前武将”对台积电诉讼叫嚣,最后在和解条件中得到台积电目前手上所有专利的交叉授权,还赢得未来十年新申请专利的交叉授权,相当于获得帐面上的大补丸,这次的和解案可以当作国际专利战“以小博大”的教战范本。

侵权诉讼落幕 台积电格芯全球专利交互授权

侵权诉讼落幕 台积电格芯全球专利交互授权

台积电与格芯互控侵犯专利权案最终圆满落幕,双方就现有及未来10年将申请的半导体技术专利达成全球专利交互授权协议。

今(29)日,台积电宣布与格芯(GlobalFoundries)宣布撤销双方之间及与其客户相关的所有法律诉讼。随着台积电和格芯持续大幅投资半导体研究与开发,两家公司已就其现有及未来十年将申请之半导体技术专利达成全球专利交互授权协议。

此项协议将确保台积公司及格芯的营运不受限制,双方客户并可持续获得两家公司各自完整的技术及服务。

格芯执行长Thomas Caulfield表示:“我们很高兴能够很快地和台积电达成协议,此项协议认可了双方知识产权的实力,使我们两家公司能够聚焦于创新,并为双方各自的全球客户提供更好的服务。同时,该协议也确保了格芯持续成长的能力,对于身为全球经济核心的半导体业而言,也有利整个产业的成功发展。”

台积公司副总经理暨法务长方淑华表示:“半导体产业的竞争一直以来都相当激烈,驱使业者追求技术创新,以丰富全球数百万人的生活。台积公司已投入数百亿美元资金进行技术创新,以达今日的领导地位。此项协议是相当乐见的正面发展,使我们持续致力于满足客户的技术需求,维持创新活力,并使整个半导体产业更加蓬勃昌盛。”

格芯8月26日分别向美国国际贸易委员会(ITC)、美国联邦法院德拉瓦分院、德州西区分院及德国杜塞尔多夫地区法院和曼海姆地区法院控告台积电使用的半导体制造技术侵犯其16项专利,掀起双方诉讼争端。

台积电不甘示弱,于9月30日展开反击,在美国、德国及新加坡控告格芯侵犯包括40纳米、28纳米、22纳米、14纳米及12纳米等制程的25项专利。