继半导体材料后,光刻机相关设备市场或受日韩贸易战影响

继半导体材料后,光刻机相关设备市场或受日韩贸易战影响

在半导体设备的供应商名单中,前15大厂商营收占总产值超过8成,由于半导体制造厂商在设备选择上多属于长期合作模式,因而形成目前半导体设备厂商大者恒大的态势。

从全球半导体设备厂的总部位置来看,日本厂商占7间、美国厂商4间、欧洲厂商2间、新加坡与韩国各1间。由于美国与日本厂商为供应链主要玩家,面对话题性不断升温的中美贸易战,以及近日突发的日韩贸易关系恶化,也让半导体设备供需状况,或将成为继半导体材料后市场讨论的议题。

半导体设备产业聚落集中度高,美国与日本为主要玩家

从设备在半导体制程的位置分析,具有独占性质的是荷兰光刻机厂商ASML,在半导体的曝光显影制程中扮演重要角色,技术层面与市占最集中,虽然有日本厂商Canon与Nikon做为竞争对手,但市占率不及ASML。

在蚀刻制程部分,Applied-Materials、LAM Research、Tokyo Electron(TEL)、Hitachi High-Technology(HHT)是主要厂商,市占部分以LAM Research与TEL囊括近7成份额。

在晶圆清洗制程部分,日商SCREEN以市占超过5成位居首位,旗下的桶槽式(WET Bench)与单晶圆式(Single Wafer)晶圆清洗设备是市场领头羊,竞争对手如韩国SEMES、LAM Research与TEL的清洗设备皆有比照SCREEN相对应的机台设计。

在薄膜沉积制程部分,Applied Materials占主导地位,其CVD(化学气相沉积)设备市占率近6成,而在PVD(物里气相沉积)设备部分市占率达7成,竞争对手TEL、LAM Research等分食剩余市场,值得一提的是,ASM International的原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)针对特定需求市场具有很高的机台使用率。

最后在晶圆检验设备方面,美商KLA Tencor市占最高超过5成,Applied Materials与Hitachi High-Technology是主要竞争对手,而日商ADVANTEST与美商Teradyne则是晶圆测试市场的主要供应商。

整体来说,半导体晶圆制造的主要设备技术供应商以美国与日本为主,高集中度的产业聚落也意味着容易受各国在贸易与进出口政策上的变动而影响产业状况,例如中美贸易战与近期的日韩关系恶化,均为半导体产业添加不稳定因子,也持续考验供应商对大环境的应变能力与经营策略。

日商半导体设备尚未出现明显影响,然而光刻机相关设备或将有潜在风险

日本与韩国同为亚洲区半导体产业一线集团,而2019年8月2日,日本宣布将韩国移出适用贸易优惠待遇的白名单后,韩国半导体产业受到的影响也备受市场关注。对半导体设备而言,机台在收到PO后约需半年制作时间,如果出口审核的时间能纳入制作机台的时间内,则较不会产生负面影响;然而,倘若审核时间必须叠加上机台出货时间,对机台出货的优先级及晶圆厂的产能规划就会造成不小影响。

从日本半导体设备供应商来看,会造成影响的独占性或许不如半导体材料大,但仍不可忽略其可能影响性,尤其是在晶圆厂的产线配置上,多半有固定机台与机型间相互搭配,由过去的机台参数调整经验与实际产品验证建构出最有效率的生产线,若要变更使用机台,即便机台参数一致,也不能保证能得到与原来产品一样的结果。因此就算半导体设备在功能分上有替代厂商,但若非过去验证过的机台,也不能抹除韩国半导体晶圆厂对于日本出口审核的潜在威胁。

值得一提的是,荷兰商ASML的光刻机是晶圆制造中相当重要且必须的设备,而ASML的光阻剂布植设备就是与日商TEL合作,晶圆做完光阻剂布植后会直接传送进做曝光显影制程空间,因此ASML某些机型的光刻机,原则上是与TEL机台联结在一起,装机与调机期间也是同时进行,倘若TLE机台出口因审核而影响交机时间,连带也会影响光刻机建置,对于韩国积极投资扩大半导体产业带来潜在的风险评估,后续影响程度仍需重点观察。

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为什么ASML一年最高产量只有30部EUV?

为什么ASML一年最高产量只有30部EUV?

晶圆制造产业进入7纳米制程之后,目前全世界仅剩台积电与三星,再加上号称自家10纳米制程优于竞争对手7纳米制程的英特尔等,有继续开发能力之外,其他竞争者因须耗费大量金钱与人力物力的情况下,都已宣布放弃。

就在7纳米制程节点以下先进制程的领域,必不可少的关键就是极紫外线微影(EUV)设备导入。除了三星用在首代7纳米LPP制程,台积电也自2019年开始,将EUV导入加强版7纳米+制程。

所谓的极紫外线微影设备EUV,就是Extreme Ultraviolet简称,使用通称极紫外线之极短波(13.5nm)光线的微影技术,能加工至既有ArF准分子雷射光微影技术不易达到之20nm以下的精密尺寸。不但能降低晶圆制造时光罩使用数量,以降低生产成本,并提高生产良率,也因能加工过去ArF准分子雷射光微影技术不易达到的20nm以下之精密尺寸,更有助半导体产业摩尔定律(Moore’s law)再往下延伸,让半导体产业发展持续精进。

因EUV设备扮演如此关键性的角色,使全球晶圆生产企业都希望获得此设备。2012年,全球三大顶尖晶圆制造厂商英特尔、台积电、三星等加入全球EUV市场占有率90%以上的ASML“客户联合投资专案”(Customer Co-Investment Program),分别取得ASML 15%、5%及3%股权,保证取得EUV优先供货。

听了这么多有关EUV设备的叙述之后,或许大家都懂了这是什么样的设备,但却很难想像,EUV不过就是一台微影设备,究竟体积会有多大?日前ASML就表示,目前最大年产量仅30台的EUV设备,每台重量高达180公吨,每次运输要用3架次货机才能运完。

ASML表示,目前半导体先进制程不可或缺的EUV设备,每台有超过10万个零件,加上3千条电线、4万个螺栓及2公里长的软管等零组件,最大重量达180公吨,每次运输必要动用40个货柜、20辆卡车,并3架次货机才能运完,且每部造价超过1亿美元。在这么庞大的数字下,可以想见ASML为什么一年最高产量只有30部EUV了。

ASML光刻机已进场 广州粤芯首条生产线9月量产

ASML光刻机已进场 广州粤芯首条生产线9月量产

近日,智光电气在投资者互动平台上透露,其参股的广州粤芯半导体采购了荷兰ASML(艾司摩尔)光刻机,并且于今年3月中旬搬进了粤芯半导体主厂房。

智光电气表示,其目前持有广州誉芯众诚股权投资合伙企业30%有限合伙人份额,间接持有粤芯半导体股权。此外,智光电气还在互动平台上表示,粤芯半导体一期以90nm-180nm技术产品为主,二期以65nm-90nm技术产品为主。 

智光电气表示,目前粤芯半导体正在做量产前的最后调试准备。光刻机等主设备的顺利进驻,为粤芯半导体量产计划提供了有力保障。 广东卫视近日也报道称,粤芯半导体首条生产线已进入最后的调试阶段,即将在6月投片、9月量产。

据悉,广州粤芯半导体技术有限公司于2017年12月在广州开发区中新知识城设立,是国内第一座以虚拟IDM (Virtual IDM) 为营运策略的12英寸芯片厂,也是广州第一条12英寸芯片生产线,目前已被列入广东省、广州市重点建设项目。该项目于2018年3月开始打桩,2018年10月按原计划完成主厂房封顶。

根据粤芯官网介绍,粤芯半导体项目投资70亿元,新建厂房及配套设施共占地14万平方米。建成达产后,粤芯半导体将实现月产40,000片12英寸晶圆的生产能力,产品包括微处理器、电源管理芯片、模拟芯片、功率分立器件等,满足物联网、汽车电子、人工智能、5G等创新应用的模拟芯片需求。

ASML光刻机已进场 广州粤芯首条生产线9月量产

ASML光刻机已进场 广州粤芯首条生产线9月量产

近日,智光电气在投资者互动平台上透露,其参股的广州粤芯半导体采购了荷兰ASML(艾司摩尔)光刻机,并且于今年3月中旬搬进了粤芯半导体主厂房。

智光电气表示,其目前持有广州誉芯众诚股权投资合伙企业30%有限合伙人份额,间接持有粤芯半导体股权。此外,智光电气还在互动平台上表示,粤芯半导体一期以90nm-180nm技术产品为主,二期以65nm-90nm技术产品为主。 

智光电气表示,目前粤芯半导体正在做量产前的最后调试准备。光刻机等主设备的顺利进驻,为粤芯半导体量产计划提供了有力保障。 广东卫视近日也报道称,粤芯半导体首条生产线已进入最后的调试阶段,即将在6月投片、9月量产。

据悉,广州粤芯半导体技术有限公司于2017年12月在广州开发区中新知识城设立,是国内第一座以虚拟IDM (Virtual IDM) 为营运策略的12英寸芯片厂,也是广州第一条12英寸芯片生产线,目前已被列入广东省、广州市重点建设项目。该项目于2018年3月开始打桩,2018年10月按原计划完成主厂房封顶。

根据粤芯官网介绍,粤芯半导体项目投资70亿元,新建厂房及配套设施共占地14万平方米。建成达产后,粤芯半导体将实现月产40,000片12英寸晶圆的生产能力,产品包括微处理器、电源管理芯片、模拟芯片、功率分立器件等,满足物联网、汽车电子、人工智能、5G等创新应用的模拟芯片需求。

ASML公布Q1财报,对今年展望不变

ASML公布Q1财报,对今年展望不变

全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)18日发布2019年第一季财报。第一季销售净额(net sales)为22亿欧元,净收入(net income)3.55亿欧元,毛利率(gross margin)41.6%。因逻辑芯片客户需求强劲,公司对于今年的前景展望保持不变。

艾司摩尔(ASML)预估2019年第二季销售净额约落在25~26亿欧元,比第一季增加,毛利率约为41~42%。

ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)表示,由于EUV系统出货量和DUV获利能力优于计划,第一季的销售额和毛利率略高于业绩指引(guidance)。逻辑芯片客户对于技术节点转换的强劲需求将带动公司在2019年加速增长。ASML同时预见在应用产品和装机方面的营收持续成长,对于今年的前景展望保持不变。

ASML总裁暨执行长温彼得(Peter Wennink)指出,ASML的NXE:3400C量产型极紫外光系统已经开始协助半导体产业生产最先进的逻辑技术节点,预计这也将驱动DRAM存储器产业采用EUV。ASML认为5G通讯、汽车、人工智能和资料中心等应用,会持续驱动市场对于半导体需求,因此再次确认对于2020年及以后的长期展望保持乐观。然而从短期来看,宏观经济的发展仍然对于市场需求带来一些不确定因素。

ASML今年计划出货30台EUV设备

ASML今年计划出货30台EUV设备

1月23日,全球光刻机巨头ASML发布其2018年第四季度及全年业绩。

数据显示,2018年第四季度ASML实现净销售额31亿欧元,净收入7.88亿欧元,毛利率为44.3%。ASML首席执行官声明中指出,公司第四季度销售额高于预期,销售额和盈利能力均创下2018年新纪录。在这一季度里,ASML收到了5份EUV订单,并宣布推出规格为每小时170片晶圆、可用率超过90%的NXE:3400C,该系统将于2019年下半年提供给客户。

纵观2018年,ASML全年实现净销售额109亿欧元,净收入26亿欧元。ASML表示,从财务角度看2018年是非常好的一年,且过去一年在技术创新方面取得了至关重要的成功,将在未来几年推动业绩增长;ASML已与尼康签署和解协议,以解决因尼康发起的涉嫌专利侵权的法律纠纷,这对2018年的毛利率产生了1.31亿欧元的负面影响。

展望2019年第一季度,ASML预计净销售额约为21亿欧元,毛利率约为40%;研发费用约为4.8亿欧元,SG&A费用约为1.3亿欧元,目标有效年化税率约为14%。

ASML指出,第一季度较低的收入指引值是由于2018年第四季度的收入拉动以及一家供应商ProDrive起火和一些系统需求变化导致的出货量下降所致。ProDrive火灾导致部分生产及库存受损,预计第一季度销售将受到约3亿欧元的负面影响,但将于第二季度基本恢复、下半年将可完全恢复;此外,部分客户2018年第四季度末作出反应,将2019年上半年采购的光伏系统推迟到下半年提货以平衡终端市场的供需。

至于2019年全年,ASML认为市场需求将助力今年成为ASML的另一个销售增长年,其预期上半年的消化期是正产的,但下半年需求将比上半年显著增强,有望高出50%。

据其透露,2019年已有30台EUV系统设备出货计划,其中包括DRAM内存客户的首批量产系统,预期今年第一款商用EUV芯片将进入消费市场;Logic部门预计将成为增长动力,有望在客户最先进节点的技术转型和生产能力方面进行大力投资,这将推动对EUV和沉浸式系统的需求;此外ASML强调,2019年继续看到对中国出口的强劲需求。

长远看来,尽管当前环境存在一些不确定性,但ASML仍对其在2020年及以后的销售和利润目标充满信心,将朝着2020年毛利率超过50%的目标迈进。由于对长期增长保持信心,ASML将在4月24日举行的年度股东大会上提议将股息提高50%,达到每股2.10欧元。