海太半导体与SK海力士三期合作签约

海太半导体与SK海力士三期合作签约

近日,海太半导体与韩国SK海力士三期合作意向书签约仪式在无锡举行。

自2004年在无锡建成投产以来,经过十五年的发展,SK海力士已发展成为江苏省单体投资规模最大、技术水平最高、发展速度最快的外资投资企业。

而海太半导体是由无锡市太极实业股份有限公司和韩国SK海力士株式会社合资成立的半导体封装测试企业,注册资本1.75亿美元,总投资4亿美元。海太半导体自2009年11月10日正式成立以来,经过十年的稳步发展,已成为国内知名半导体封装测试企业,并逐步发展成为全球封装测试产业一股重要的新兴力量。

据无锡国家高新技术产业开发区报道,海太半导体通过产品结构优化,产线技术升级等多项措施,单月封装能力已超过12亿Gb容量,全年产能约占全球DRAM封装测试产能的13%。此次签约标志着双方将在DRAM封装领域继续保持稳固的战略合作伙伴关系,加强优势互补,促进互利共赢。

无锡市政府副市长、高新区党工委书记、新吴区委书记王进健表示,无锡高新区将进一步深化与SK海力士多方面、多领域的合作,全力推动SK科技园、学校、医院、基金等项目的进展,继续为SK海力士在锡发展创造最佳的营商环境、提供最优的政府服务,推动SK海力士在锡做大做强。

海太半导体与SK海力士三期合作签约

海太半导体与SK海力士三期合作签约

近日,海太半导体与韩国SK海力士三期合作意向书签约仪式在无锡举行。

自2004年在无锡建成投产以来,经过十五年的发展,SK海力士已发展成为江苏省单体投资规模最大、技术水平最高、发展速度最快的外资投资企业。

而海太半导体是由无锡市太极实业股份有限公司和韩国SK海力士株式会社合资成立的半导体封装测试企业,注册资本1.75亿美元,总投资4亿美元。海太半导体自2009年11月10日正式成立以来,经过十年的稳步发展,已成为国内知名半导体封装测试企业,并逐步发展成为全球封装测试产业一股重要的新兴力量。

据无锡国家高新技术产业开发区报道,海太半导体通过产品结构优化,产线技术升级等多项措施,单月封装能力已超过12亿Gb容量,全年产能约占全球DRAM封装测试产能的13%。此次签约标志着双方将在DRAM封装领域继续保持稳固的战略合作伙伴关系,加强优势互补,促进互利共赢。

无锡市政府副市长、高新区党工委书记、新吴区委书记王进健表示,无锡高新区将进一步深化与SK海力士多方面、多领域的合作,全力推动SK科技园、学校、医院、基金等项目的进展,继续为SK海力士在锡发展创造最佳的营商环境、提供最优的政府服务,推动SK海力士在锡做大做强。

DRAMeXchange郭祚荣:预估内存价格明年Q2开始上涨

DRAMeXchange郭祚荣:预估内存价格明年Q2开始上涨

集邦咨询DRAMeXchange研究副总经理:郭祚荣

供给端方面,郭祚荣分析认为全球2020年内存市场的年成长预估仅为12.2%,这个数字在年成长动辄25%、甚至40%-50%的传统内存产业是非常低的。三星、SK海力士、美光等内存厂商明年获利为主要目标,资本支出也会减少。

具体而言,在标准型内存、服务器内存、行动式内存、绘图用内存、利基型内存这5大类产品中,明年份额比重最大的是行动式内存,占比约39.7%,主要因为智能手机本身需求量大,加上明年5G的兴起将带来强劲的换机潮;其次为服务器内存、占比约为34.9%,郭祚荣指出,服务器内存的份额比重每年逐步上升,未来3-5年服务器内存的份额比重可能会超过行动式内存,成为全部内存产品份额比重最高的产品。

其他产品类别的份额比重情况,PC方面(标准型内存)在逐年下降,虽然游戏电脑的需求在提升,但占比不高;绘图用内存目前需求还可以,预估明年状况会很好;利基型内存方面,每年的增长大概是7%-8%。

至于投片情况,郭祚荣指出今年第四季度全球内存厂晶圆投片量预估为1200多K,明年第四季度预计是1300多K,从投片角度看,明年的成长只有5%左右,这其实并不高,与明年的供给成长只有12.2%相呼应。

其中,三星明年第四季度投片量与今年第四季度投片量相比,成长只有大概30K(即3万片左右),以三星的整体规模看相当于几乎没有新产能产出;SK海力士的投片量是不增反减,今年第一季度350K、到明年第四季度只有340K;美光方面,今年第四季度和明年第四季度相比,投片量相差不多。

虽然投片量没有显著增加,但为何明年供给端仍有12.2%的年成长?郭祚荣表示这是因为制程上的提升增加了颗粒的产出量。明年三星、SK海力士、美光等全球三大厂商的产出量仍有成长,三星预估成长12.6%,SK海力士由于今年转1Ynm不顺、把量转到明年,因此明年预估有14.1%的成长,美光预估成长10.3%。

制程转进方面,三星大部分供应已集中在1Xnm,1Ynm也有17%,明年三星将继续转1Ynm,1Xnm则会继续减少。目前,三星也有在做1Znm产品,但还是会先转1Ynm,1Znm的转进会视后面市场情况决定。

郭祚荣认为,制程最先进的是三星、SK海力士次之、美光第三。但据其了解到的新信息,美光的1Znm制程工艺十分先进,甚至可跟三星齐头并进,有可能在明年或者后年、在1Znm变成规模较大时,可能是美光制程工艺的反转点。

再看需求端,郭祚荣分析认为,明年全球内存需求端仍出现微幅衰退,其中笔记本将衰退0.6%、PC将衰退0.7%;服务器和智能手机是明年唯二呈现成长趋势的产品类别,其中服务器这几年都在上升,明年将成长3.8%;智能手机今年是负4%,明年预计为0.1%。

具体而言,全球2020年内存需求达17.5%,其中智能手机和服务器的需求比重最大,无论是今年或是明年,两者需求比重总和都占据了总需求七成左右份额,其他如PC比重将越来越低,利基市场大概每年维持差不多的比重。

根据全球内存供需状况分析,2020年Demand bit Growth预计增长17.6%、Supply Bit Growth预计增长12.2%,Sufficiency ratio则有0.5%的增长,价格有可能会反转;今年价格跌了将近50%-60%,这是因为目前供过于求将近5.4%,对市场来讲是十分严峻的。

以PC DRAM DDR4 8GB产品为例,今年年初价格为50元,到今年年底预计价格只剩24元,价格下跌近一半。郭祚荣认为,明年第一季度内存价格呈现小跌的可能性较高,但这并不影响明年下半年的价格趋势,毕竟供给真的有所减少,其预估内存价格在明年第二季度会开始反弹,一直延续到年底,但明年全年可能也只涨20%-30%。

具体到各类别产品,郭祚荣预估明年涨幅最高的内存产品应该是PC DRAM和Graphic DRAM,其次是服务器内存;移动设备方面,相对其他的产品要平稳一些,是5大类别产品里面涨幅最小的,另外一个涨幅较小的是利基型产品。

整体而言,郭祚荣预估全部产品的利润明年至少有20%的上涨、甚至可能有机会达到30%,但最重要的还是取决于市场需求状况。对于价格,郭祚荣的结论是,明年价格会上涨,最快第二季度可以看到,但不会涨得非常凶或者非常高,将呈现缓涨趋势。

集邦咨询于2019年11月27日成功举办2020存储产业趋势峰会(MTS 2020),在此特别感谢金邦科技、芝奇国际、宏旺半导体、时创意电子、金泰克半导体、紫光存储、厦门银行等企业对本次会议的大力支持。

PS:本次峰会集邦咨询分析师演讲讲义现已对外分享,如有需要请关注“全球半导体观察”微信公众号并回复分析师名字即可领取,如“叶茂盛”、“郭祚荣”。同时,欢迎识别下方二维码或在微信公众号回复”峰会”观看峰会完整视频回放。

研究报告咨询:0755-82838930-2101

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SK海力士量产128层4D NAND 终端产品2020年下半年亮相

SK海力士量产128层4D NAND 终端产品2020年下半年亮相

当前,随着资料量大增,使得当前主流的固态硬盘(SSD)容量也必须越来越大,以应付储存大量数据的需求。

日前,韩国存储器大厂SK海力士就正式宣布量产128层堆叠的4D NAND Flash,正式将SSD的容量进行大幅度的升级。

根据外电报导,SK海力士早就在2019年6月份就宣布正式量产128层堆叠的4D NAND Flash,成为全球首家量产128层NAND Flash的存储器厂商。

而当前SK海力士所宣布,在这个月正式向客户交货的128层堆叠4D NAND Flash的工程样品,全部都是TB容量等级的高密度解决方案,包括手机所用的1TB UFS 3.1 4D NAND Flash,消费等级的2TB SSD、以及企业级的16TB E1.L规格SSD。

SK海力士宣称,其新推出的128层堆叠4D NAND Flash的单颗容量为1TB大小。所以,未来可以做到很大的容量,是业界储存密度最高的TLC NAND Flash。

报导表示,现在1TB储存空间的手机,通常需要使用两颗512GB的UFS NAND Flash,在SK海力士的1TB UFS 3.1 4D NAND Flash正式出货后,手机使用NAND Flash的数量就会减少一半,节省更多的手机主机板空间。

此外,SK海力士这颗1TB的4D NAND Flash封装厚度仅1mm,是未来超薄5G手机的绝佳选择,预计搭配这款4D NAND Flash的手机有望在2020年下半年量产,而搭载128层堆叠4D NAND Flash的2TB消费级SSD,以及16TB的E1.L规格的企业级SSD也预计会在2020年下半年量产。

日首次批准对韩出口液体氟化氢 或为牵制韩企发展?

日首次批准对韩出口液体氟化氢 或为牵制韩企发展?

据韩国国际广播电台(KBS)报道,16日有消息称,日本政府批准向韩国三星电子和SK海力士出口,被列为对韩出口限制项目之一的液体氟化氢。

液体氟化氢是半导体材料之一。此前,日本政府曾批准对韩出口三大出口限制项目,包括氟聚酰亚胺(Fluorine Polyimide)、光刻胶(Resist)以及高纯度氟化氢(Eatching Gas),但批准对韩出口液体氟化氢尚属首次。

报道指出,到目前为止,日本政府已12次批准向韩国出口三大限制项目,但这并不能视为日方已改变态度。

继2019年7月宣布对韩采取出口限制措施后,日本政府以资料不全为由,未予批准向三星电子和SK海力士出口液体氟化氢,90天出口审核时限即将到期,若日方未在时限内完成审核,或将在世贸组织(WTO)争端解决机制中处于不利地位。报道称,这被认为是日本采取批准措施的原因之一。

还有分析认为,随着韩国企业快速实现国产化,日本政府为牵制韩企发展而批准日企出口相关产品。据悉,日本限制对韩出口已给此次获准出口液体氟化氢的日企带来了巨大打击。

日本政府7月开始对韩国实行限制出口措施,8月初以安全保障为由把韩国从“白名单”国家中剔除,8月28日零时正式生效。作为回应,韩国8月12日决定把日方排除出韩方贸易“白色清单”,8月22日宣布不再与日方续签《军事情报保护协定》。

9月11日,韩国政府就日本限制对韩出口一事向世界贸易组织提起申诉。详细内容有,日本限制对韩出口高纯度氟化氢、氟聚酰亚胺、光致抗蚀剂这3种半导体关键材料违反《关贸总协定》(GATT)和《贸易便利化协定》(TFA),限制三种材料技术转让有违《与贸易有关的投资措施协议》(TRIMs)和《与贸易有关的知识产权协定》(TRIPS)。

双方若无法在磋商期内达成一致,世贸组织将为此设立专家组。

HBM2E开启超高速存储器半导体新时代

HBM2E开启超高速存储器半导体新时代

比尔·盖茨(Bill Gates)在1999年出版的《未来时速》(Business @ the Speed of Thought)一书中描绘了一种“数字神经系统(Digital Nervous System)”,并把它比作为一个跨越时空界限的互联世界。基于“数字神经系统”这一必要条件,他又提出了如何以思维速度(Speed of Thoughts)经营企业的想法。这在当时看来似乎是不可能的事,但如今科技的快速进步已经让这个预言成为可能。超高速存储器半导体的时代已经来临,IT技术正向人类大脑的思考速度发起挑战。

TSV技术:解锁HBM无可比拟的“容量和速度”

各大制造商已经纷纷引进了高带宽存储器 (High Bandwidth Memory, 简称HBM),采用硅通孔(Through Silicon Via, 简称TSV)技术进行芯片堆叠,以增加吞吐量并克服单一封装内带宽(Bandwidth)的限制。在这一趋势下,SK海力士早在2013年便率先开始了HBM的研发,以尝试提高容量和数据传输速率。SK海力士现已充分发挥了最新HBM2E的潜能,通过TSV将8个16Gb芯片纵向连接,从而实现了16GB传输速率。

TSV由一个电路芯片和一个“Interposer”(即位于电路板和芯片之间的功能包)上方的多层DRAM组成。简单来说,TSV可以比喻成一幢公寓式建筑结构,建筑地基(Interposer)上方是社区活动中心(逻辑芯片),再往上是层层叠加的公寓房间(DRAM)。与传统方法不同,TSV技术就好比在芯片上钻孔,然后一个一个地堆叠起来。作为一种封装技术,它通过这些孔内的导电电极连接芯片,由此数据可以垂直移动,仿佛安装了一台数据电梯。与传统的采用金线键合技术生产的芯片相比,这种技术连接更短,因而信号路径更短,具有更低功耗的高速性能。另外,与传统方法相比,穿透芯片可以在芯片之间形成更多通道。

从HBM到HBM2E的进化

相比依赖于有线处理的DRAM封装技术,HBM在数据处理速度方面显示出了高度的改良。不同于金线缝合的方式,通过TSV技术,HBM可将超过5,000个孔钻入相互纵向连接的DRAM芯片中。在这样一个快速崛起的行业趋势下,SK海力士于2019年8月开发出了具有超高速性能的HBM2E。这是目前行业中拥有最高性能的一项技术。与之前的HBM2标准对比,HBM2E将提高50%的数据处理速度。由于这一高度改良,它将成为新一代HBM DRAM产品。

不同于传统结构采用模块形式封装存储芯片并在系统板上进行连接,HBM芯片与芯片与图像处理器(Graphics Processing Unit, 简称GPU)和逻辑芯片等处理器紧密地相互连接。在这样一个仅有几微米单元的距离下,数据可被更快地进行传输。这种全新的结构在芯片之间创造了更短的路径,从而更进一步加快了数据处理速度。

随着数据不断增加,对于高性能存储器的需求将在第四次工业革命中持续增长。HBM已经在GPU中被使用。HBM2E或将成为包括新一代GPU、高性能计算机处理、云计算、计算机网络、以及超级计算机在内等高性能装置中的一种高端存储器半导体,以满足这些装置对于超高速运作这一特性的要求。除此之外,HBM2E也将在一些高科技行业中扮演重要角色,例如机器学习和AI系统等。另外,随着游戏产业中对图形应用的日益扩大,HBM技术的采用也相应增加,以此可以处理大屏幕下更多像素的需求。通过更高的计算机处理速度,HBM也为高端游戏提供了更好的稳定性。

填补日本管制缺口 韩国自比利时进口光阻剂暴增近4.5倍

填补日本管制缺口 韩国自比利时进口光阻剂暴增近4.5倍

根据韩国媒体报导,三星电子、SK海力士等韩国半导体企业,目前从比利时引进半导体光阻剂(photoresist),顺利填补日本出口限制导致的原料缺口。韩国产业研究院调查报告指出,有77%的韩国企业认为,不会受日韩贸易冲突波及。

根据《ETnews》报导,日本对韩国加强出口管制已超过100天。韩国关税厅根据统计指出,2019年第3季从比利时进口的光阻剂金额为459.6万美元,相较2018年同期的84.1万美元,高出446%。

值得注意是,从7月开始,比利时制光阻剂进口量急剧增加,相较6月进口金额仅6.6万美元,7月日本对韩国出口限制后,每个月进口金额都超过100万美元。

报导指出,日本将光阻剂列入对韩国的限制产品之后,三星和SK海力士等企业就积极争取自比利时进口。虽然,相关韩国企业不愿证实比利时光阻剂原料的来源,但据了解,光阻剂应是来自日本化学企业JSR与比利时研究中心IMEC的合资公司RMQC。

韩国关税厅公布的光阻剂进口金额,也包含通用半导体原料,但大多是EUV技术专用原料。外界解读,比利时的光阻剂原料已补足韩国半导体企业对这类产品需求的缺口。

根据统计,2019年第3季,韩国从比利时进口的光阻剂重量约0.9公吨,若换算成体积,相当于250~260加仑。业界透露,三星电子每个月需约80加仑EUV用光阻剂,SK海力士则尚未正式引进EUV技术制程,因此每个月只需10加仑以下用量。有分析认为,韩国目前进口库存量已能避免日韩贸易纠纷带来的影响。

韩国自比利时进口光阻剂暴增近4.5倍 预估足以填补日本管制缺口

韩国自比利时进口光阻剂暴增近4.5倍 预估足以填补日本管制缺口

根据韩国媒体报导,三星电子、SK海力士等韩国半导体企业,目前从比利时引进半导体光阻剂(photoresist),顺利填补日本出口限制导致的原料缺口。韩国产业研究院调查报告指出,有77%韩国企业认为,不会受日韩贸易冲突波及。

根据《ETnews》报导,日本对韩国加强出口管制已超过100天。韩国关税厅根据统计指出,2019年第3季从比利时进口的光阻剂金额为459.6万美元,相较2018年同期的84.1万美元,高出446%。特别的是,从7月开始,比利时制光阻剂进口量急剧增加,相较6月进口金额仅6.6万美元,7月日本对韩国出口限制后,每个月进口金额都超过100万美元。

报导指出,日本将光阻剂列入对韩国的限制产品之后,三星和SK海力士等企业就积极争取自比利时进口。

虽然相关韩国企业不愿证实比利时光阻剂原料的来源,但据了解,光阻剂应是来自日本化学企业JSR与比利时研究中心IMEC的合资公司RMQC。

韩国关税厅公布的光阻剂进口金额,也包含通用半导体原料,但大多是EUV技术专用原料。外界解读,比利时的光阻剂原料已补足韩国半导体企业对这类产品需求的缺口。

根据统计,2019年第3季,韩国从比利时进口的光阻剂重量约0.9公吨,若换算成体积,相当于250~260加仑。

业界透露,三星电子每个月需约80加仑EUV用光阻剂,SK海力士则尚未正式引进EUV技术制程,因此每个月只需10加仑以下用量。有分析认为,韩国目前进口库存量已能避免日韩贸易纠纷带来的影响。

SK海力士公布最新财报 DRAM和NAND Flash各自表现如何?

SK海力士公布最新财报 DRAM和NAND Flash各自表现如何?

10月24日 – SK海力士今日宣布截止2019年9月30日的2019年第三季度财务报告。第三季度结合并收入为6.84万亿韩元,营业利润为4726亿韩元,净利润为4955亿韩元。本季度的营业利润率为7%,净利润率为7%。

第三季度,由于出现恢复需求的动向,收入环比增长6%,但在收益性方面,尽管DRAM的单位成本降低,但市场价格下降幅度却没有完全抵消,营业利润环比下降26%。

对于DRAM,公司积极响应移动新产品,并随着一些数据中心客户的购买量也所增加,DRAM比特出货量(bit shipments)环比增加23%,但价格持续疲软,平均销售价下降了16%。但是,平均销售价下降幅度比上一季度有所减少。

对于NAND闪存,公司积极应对持续需求复苏的高容量移动和SSD等解决方案市场,但由于公司减少上一季度暂时增加的单品销售,导致比特出货量环比下降1%。但由于减少了价格相对较低的单品销售比重,平均销售价格环比增长了4%。

SK海力士计划,在满足日益增长的客户要求的同时,并有效应对外部不确定性引起的需求波动,将根据市场情况灵活调整生产和投资。

SK海力士正在其利川M10厂的一部分生产线转换为批量生产CMOS图像传感器(CIS)的生产线,同时减少2D NAND闪存的生产量。结果,于去年相比,明年的DRAM和NAND闪存的生产容量预计将减少。于今年相比,明年的投资额也将相当减少。

另外,SK海力士计划,持续开发新一代微细工程技术,并通过扩大高容量附加值产品的销售来扩展其他产品组合,以在市场改善时实现更大的增长。

SK海力士计划将第二代10纳米(1Y)DRAM的生产比重到明年末提高至10%初,并计划对最近开发的第三代10纳米(1Z)工程的产品进行批量生产。此外,该公司计划积极应对LPDDR5和HBM2E市场。预计这些产品将于明年被客户积极采用。

公司将把96层4D NAND闪存产品的生产比重到年末扩大到10%中后半,并推进128层 4D NAND闪存的批量生产和销售准备。此外,公司重点攻略高配置智能手机和SSD市场,预计SK海力士的NAND闪存销售额中SSD所占的比重在第四季度将增加到30%。

SK海力士攸关者表示 :“我们将基于这次市场低迷的经验,将把事业的波动性最小化。同时,加大努力实现可持续成长。”

■ 2019财年第三季度业绩                         

SK海力士开发第三代10纳米DDR4 DRAM

SK海力士开发第三代10纳米DDR4 DRAM

10月21日,SK海力士宣布开发适用第三代1Z纳米的16Gb(Gigabits)DDR4(Double Data Rate 4) DRAM。

这款实现了单一芯片标准内业界最大容量的16Gb,在一张晶圆中能生产的存储量也是现存的DRAM内最大。于第二代1Y产品相比,该产品的生产效率提高了27%,并且可以在不适用超高价的EUV(极紫外光刻)曝光工艺的情况下进行生产,结果具有成本竞争力。

该款1Z纳米 DRAM还稳定支持最高3200Mbps的数据传输速率,这是DDR4规格内最高速度。 功耗也显着提高,与基于第二代8Gb产品的相同容量模组相比,将功耗降低了约40%。

特别是,第三代产品适用前一代生产工艺中从来没使用过的新材料,将DRAM操作的关键要素静电容量(Capacitance)最大化。此外,还引进了新的设计技术,提高了动作稳定性。

DRAM 1Z 开发事业TF长 李廷燻表示:“第三代10纳米级DDR4 DRAM拥有业界最高水平的容量和速度, 再加上功耗, 是最适合于购买高性能/高容量DRAM的客户需求变化。计划年内完成批量生产,从明年开始正式供应, 积极应对市场需求。”

另一方面,SK海力士计划对于下一代移动DRAM LPDDR5 和 最高端DRAM HBM3等多种应用领域扩大适用第三代10纳米级微细工程技术。